报道：ASML正抓紧研制其下一代高NA的EUV极紫外光刻机

ASML(荷兰阿斯麦)正抓紧研制其下一代高NA(0.55数值孔径)的EUV极紫外光刻机，在发布最新财报期间，AMSL透露，其存量EUV客户均订购了新一代设备。

具体来说，在Intel和台积电之后，三星、SK海力士、美光等也下单高NA EUV光刻机了。

高NA EUV光刻机允许加工更精密的半导体芯片，生产效率也更高，它也是2nm及更先进工艺的必要条件。

韩国设备商透露，现款EUV光刻机的订货价是2000~3000亿韩元(约合10~16亿元人民币)，而高NA EUV光刻机的报价翻番到了5000亿韩元(约合26亿元)。

据了解，在三季度财报中，ASML完成58亿欧元的净销售额，毛利率51.8%、净利润17亿欧元，公司预计四季度净销售额在61~66亿欧元之间。

CEO Peter Wennink，其三季度预订产品的销售额达到创纪录的89亿欧元，其中EUV设备就有38亿欧元。